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                        • 氣體分析儀器介紹

                          在半導體領域中,磁控濺射鍍膜工藝對靶材所含的氣體和夾雜異常敏感,因為氣體和夾雜會導致等離子體異常放電和顯微顆粒的噴射,破壞和降低濺射薄膜質量,導致薄膜缺陷增加,..

                          更多 2020-03-06

                        • HIAC 9703+ 液體顆粒計數器(LPC)

                          HIAC 9703+ 液體顆粒計數器(LPC)是微粒計數領域質量控制和研究應用中的佼佼者。當液體中的微粒通過窄小的檢測區時,由于被不溶性微粒..

                          更多 2020-03-06

                        • VG9000輝光放電質譜儀(GDMS)

                          輝光放電質譜法作為一種固體樣品直接分析技術 ,廣泛應用于金屬、半導體等材料的痕量和超痕量雜質分析。隨著制樣方法和離子源裝置的改進 ,GDMS..

                          更多 2015-02-05

                        • 高純金屬純度控制及提純技術

                          由于金屬材料中的雜質會影響半導體芯片等下游產品的導電性能,因此,濺射靶材對金屬材料的純度提出了相當高的要求。公司通過自主研發和合作研發,已經具備生產高純度的濺射..

                          更多 2015-02-05

                        • 島津PDA-7000直讀光譜儀

                          鳥津PDA-7000直讀光譜儀適用于鋼鐵、鋁、鎂、銅、鋅、錫、鈦等各種固體金屬的基體金屬、合金中的組成元素、雜質微量元素的定量。應用于這些金屬的冶煉工業和機械加..

                          更多 2015-02-05

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